通常，我們所說的 CPU 的“制作工藝”，指的是在生產 CPU 過程中，要進行加工各種電路和電子元件，制造導線連接各個元器件。其生產精度以微米（長度單位，1 微米等于千分之一毫米）來表示，未來有向納米（1 納米等于千分之一微米）發展的趨勢。精度越高，生產工藝就越先進。在同樣的材料中，可以制造更多的電子元件，連接線也越細，提高 CPU 的集成度，CPU 的功耗也越小。

　　制造工藝的微米，是指 IC 內電路與電路之間的距離。制造工藝的趨勢是向密集度愈高的方向發展。密度愈高的 IC 電路設計，意味著在同樣大小面積的 IC 中，可以擁有密度更高、功能更復雜的電路設計。微電子技術的發展與進步，主要是靠工藝技術的不斷改進，使得器件的特征尺寸不斷縮小，從而集成度不斷提高，功耗降低，器件性能得到提高。芯片制造工藝在1995年以后，從 0.5 微米、0.35 微米、0.25 微米、0.18 微米、0.15 微米、0.13 微米、0.09 微米，而 0.065 微米（65 納米）的制造工藝，將是下一代 CPU 的發展目標。

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